Přehled
Během stáže si osvojíte základy polovodičové technologie a přípravy nanostruktur. Naučíte se obsluhovat moderní fotolitograf s metodou přímého laserového zápisu, DMO MicroWriter ML3 a provádět další technologické kroky přípravy, včetně nanášení litografických laků pomocí spin-coatingu, chemické vyvolání motivu zapsaného litografem a další.
V rámci analýzy vyrobených vzorků se seznámíte s pokročilými metodami, jako je např. SEM, AFM, konfokální mikroskopie, profilometrie a jiné. Budete tak mít příležitost podílet se na vývoji miniaturních elektronových zářičů a seznámit se s jejich problematikou.
Skupina Elektronová litografie, oddělení Elektronové a plazmové technologie.
Instituce: Ústav přístrojové techniky AV ČR
